韩国提速 EUV 光刻机进口审批以强芯

韩国产业通商资源部发布声明称，为支撑本国芯片产业的强劲竞争力，韩国决定优化半导体制造核心设备——极紫外（EUV）光刻机的进口清关流程。依据内阁审议通过的《高压气体安全控制法》施行细则修正案，EUV 设备的进口办理时长将由原来的 34 天大幅压缩至 9 天左右。韩国产业部指出，这一新举措将直接惠及三星电子和 SK 海力士，助其加速完成高端芯片产线的设备安装与投产。

责任编辑：王永生

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