美国针对ASML再升级:禁售DUV光刻机,荷兰政府坚决反对
快科技5月14日讯,据透露,荷兰方面针对美国国会正在酝酿的《硬件技术控制多边协调法案》(Match Act),已向美方表达了强烈的反对立场。
这项由美国两党议员共同提案的法案,核心意图是进一步收紧ASML向中国出口浸润式深紫外光刻机(浸润式DUV)的通道,并禁止其为中国现有客户提供后续维护服务。
荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛在5月12日发布的致美国议员回函中直言不讳:荷兰内阁坚决抵制该法案中包含的“域外管辖”条款。
他认为,这类泛化的限制手段极有可能给包括荷兰企业在内的半导体厂商造成营收重创,压缩其市场生存空间,进而扰乱贸易及投资环境的稳定性。
他进一步强调,各国应当自主制定并执行出口管制政策,不应由单方面的立法越界干涉他国事务。
目前,ASML向中国销售最顶尖的极紫外光刻机(EUV)已被全面叫停,而浸润式DUV则是其目前仅存的对华出口主力。
倘若该法案按现状生效,将意味着ASML将彻底退出中国市场,连同之前售出的设备也丧失了售后支持。
舍尔茨玛还提到,上月荷兰王室访美期间,荷兰首相、外交大臣及经贸部门官员已当面向美方阐述了这一立场,但美国国会至今未予回应。
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