独辟蹊径！国产纳米压印光刻机横空出世，成本仅为DUV十分之一

据快科技6月9日报道，杭州璞璘科技（Prinano）近日通过其官方公众号透露，携手深圳力策科技，共同利用自主研发的真空气压纳米压印技术，成功完成了8英寸光芯片的规模化量产验证工作。

据披露，这项技术彻底摒弃了传统的深紫外（DUV）光刻路径，成功将光芯片的制造开销削减到DUV模式的十分之一，这为中国受ASML设备出口禁令制约的芯片行业注入了新的希望。

此次量产突破的关键在于璞璘科技自研的PL-AS真空气压晶圆级纳米压印设备，结合定制双层压印胶体系及核心工艺，使得整个生产流程不再依赖ASML的DUV光刻机。

区别于目前主流的辊压和佳能喷墨步进式工艺，该设备运用“空气垫”面接触压印原理，能够把晶圆全表面的压力均匀度误差控制在0.5%以下，残余层厚度误差小于2nm，且兼容硬质与柔性模板，线宽分辨率可突破10nm。

相较于辊压的线接触方式，气压式彻底攻克了压印均匀性差的难题；对比佳能的步进式工艺，其一次性全域压印的高效率更契合光芯片的大规模制造需求。

更重要的是，纳米压印技术实现了跨尺度微纳结构的一次成型。传统DUV光刻在处理几十纳米到数微米的复杂结构时，往往需要多道工序和多台设备协作，而纳米压印只需将所有结构集于同一模板，一次压印即可复制，从而大幅压缩生产周期并减少良率损耗。

现阶段，该技术已在多个光芯片领域达成量产验证，这些产品广泛应用于光通信、传感及激光雷达等场景。

然而，业内对于纳米压印技术的实际价值仍存诸多分歧。《南华早报》指出，该技术在量产规模、良率以及非光子芯片领域的适用性方面，尚缺乏充分的验证。

研究机构SemiAnalysis认为，虽然纳米压印设备造价更低，但其成本优势的实际体现取决于产能、模板制造、缺陷率及工艺集成等综合因素，短期内难以撼动DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未公开具体的良率、出货量、客户订单及独立验证数据，其商业化规模仍需持续关注。

此次突破也折射出在美国主导的出口管制环境下，中国科技企业探索差异化技术路线的大趋势。从华为近期提出的“τ”定律将重心从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装与三维集成，到各类设备初创企业在细分领域寻找实用的制造替代方案，国产半导体产业正通过多条路径突围技术封锁。

璞璘科技成立于2017年，其创始人葛海雄师从纳米压印技术先驱、美国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已交付了中国首台半导体级纳米压印光刻机。此次8英寸光芯片量产突破，象征着国产纳米压印技术从实验室迈向产业化应用的关键跨越。

责任编辑：朝晖