独辟蹊径！国产纳米压印光刻机横空出世，成本仅为DUV十分之一

据快科技6月9日报道，杭州璞璘科技（Prinano）近日通过其官方公众号透露，携手深圳力策科技，共同利用自主研发的真空气压纳米压印技术，成功完成了8英寸光芯片的规模化量产验证工作。 据披露，这项技术彻底摒弃了传统的深紫外（DUV）光刻路径，成功将光芯片的制造开销削减到DUV模式的十分之一，这为中国受ASML设备出口禁令制约的芯片行业注入了新的希望。 此次量产突破的关键在于璞璘科技自研的PL-AS真空气压晶圆级纳米压印设备，结合定制双层压印胶体系及核心工艺，使得整个生产流程不再依赖ASML的DUV光刻机。