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美方质疑顶级光刻机流入中国 ASML坚决否认

发布时间:2026-06-20 01:34阅读:1

来源:JQman科技网

近期,美国商务部长霍华德·卢特尼克在多次会谈中向荷兰光刻机制造商ASML提出疑虑,认为可能有一台极紫外(EUV)光刻设备已进入中国,如果属实将严重违背现行出口限制规则。ASML对此指控予以强烈否认,强调从未向中国交付任何EUV系统,且美国商务部未向媒体或ASML公开出示任何相关证据。