突破单一EUV格局！革命性技术将重塑未来五年高端芯片制造蓝图

快科技7月13日消息，据媒体报道，人工智能热潮带动了对顶级芯片的强劲需求，但目前全球高端芯片供给仍严重依赖少数几家公司的技术和产能。 美国《福布斯》近日指出，随着创新技术层出不穷，全球顶级芯片制造方式预计在2030年将发生根本性转变。虽然EUV光刻仍是当前主导工艺，但它并非在硅片上雕刻晶体管的唯一方法。一系列面向未来的光刻新技术正在酝酿，有望取代EUV，重新定义芯片制造版图。 其中，原子光刻独辟蹊径，摒弃传统“光”源，改用原子束在硅片上雕刻极其精细的图案。一旦研发成功，可将特征尺寸在EUV基础上进一步缩减