韩国政府加速极紫外光刻设备通关，助力半导体产业升级

韩国产业通商资源部于本周二宣布，相关部门将对极紫外光刻（EUV）设备的进口流程进行精简优化。EUV设备作为半导体制造的核心装备，此举旨在保障韩国快速增长的芯片制造业维持生产竞争优势。 依据韩国内阁审议通过的《高压气体安全管理法》实施细则修订案，EUV设备的通关周期预计将从现有的34个工作日大幅缩减至约9个工作日。 韩国产业通商资源部指出，此番法规修订将助力三星电子、SK海力士等本土芯片制造企业迅速获取EUV光刻设备，这对构建高端生产线具有重要意义。