国产SSA800光刻机量产交付？官方辟谣：消息不实！

科技媒体5月10日报道，近期网络上流传的"上海微电子28nm浸没式DUV光刻机实现首次批量交付"消息引发业内广泛关注。

对此，芯智讯发布澄清文章，明确指出该消息存在多处明显的事实错误。

文章首先对消息来源提出质疑。该报道仅使用"据报道"等模糊表述，未提供任何权威、具体的消息来源，这在光刻机这类重大科技新闻中显得极不严谨。

报道称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上正式宣布SSA800系列实现全面量产"。然而经调查核实，所谓"长三角半导体产业峰会"并无任何权威媒体报道，找不到任何举办时间、地点、主办方等官方信息。上海微电子官方也从未发布过相关声明。网上所有涉及该峰会的信息，全部都是与"上海微电子官宣量产"捆绑发布的自媒体推广文章。

另一条虚假信息是"2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子首次公开亮相SSA800样机"。芯智讯记者明确表示，自己当时就在展会现场，上海微电子展位上根本没有这款设备。展会期间及之后，也没有任何正规媒体对此进行过报道。

最为荒谬的是关于"量产良率达90%~95%"的说法。一位光刻机企业内部人士明确指出："这是假消息，光刻机根本不存在良率指标。"光刻机是生产芯片的设备，本身不存在"良率"这一概念。

即便将其理解为使用该设备生产芯片的良率，这一数字也过于惊人。要知道台积电28nm工艺2011年实现量产后，直至2012年8月良率才勉强突破80%。

一位国内晶圆代工企业内部人士透露，目前SSA800系列尚未进入任何商业化晶圆厂，仍在集成电路研发中心（ICRD）进行测试验证阶段。所谓"首批批量交付"和"量产工艺验证"均与实际情况不符。

资料显示，SSA800正是近年来市场一直关注的国产"28nm光刻机"，采用193nm ArF浸没式技术，套刻精度控制在2.3~2.5nm，每小时可处理150片晶圆，直接对标ASML TWINSCAN NXT:1950i。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，混合匹配套刻精度为3.5nm，每小时可处理200片晶圆。

文章最后强调，期望国产光刻机取得突破是每一位国人的真挚愿望，但越是热切期盼，越应保持理性判断。不实的"夸大宣传"不仅会误导社会公众，还会损害产业链潜心钻研的严肃氛围。

真正的技术突破，从来无需依赖虚假宣传来证明实力。

责任编辑：朝晖