莫迪访荷谈合作：印度首座晶圆厂动工 但暂缺EUV光刻机
5月16日快科技讯，芯片产业正演变为科技角逐的核心战场，除了中美两国角力外，印度也将先进制造视为重中之重。莫迪总理时隔9年再度造访荷兰，双方聚焦ASML合作事宜。 据印媒披露，在莫迪的亲自见证下，印度最大财团塔塔与ASML达成合作，计划在其家乡古吉拉特邦多莱拉兴建印度首座300mm晶圆厂。 ASML承诺提供尖端设备协助建厂投产，塔塔集团为此斥资110亿美元，目标涵盖AI、车规级电子等领域，预计月产晶圆5万片。 虽然合作将采购ASML设备，但该厂无需最尖端的光刻机，EUV光刻机暂无需求。此外，技术方案亦非自
国产SSA800光刻机量产交付？官方辟谣：消息不实！
科技媒体5月10日报道，近期网络上流传的"上海微电子28nm浸没式DUV光刻机实现首次批量交付"消息引发业内广泛关注。 对此，芯智讯发布澄清文章，明确指出该消息存在多处明显的事实错误。 文章首先对消息来源提出质疑。该报道仅使用"据报道"等模糊表述，未提供任何权威、具体的消息来源，这在光刻机这类重大科技新闻中显得极不严谨。 报道称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上正式宣布SSA800系列实现全面量产"。然而经调查核实，所谓"长三角半导
龙图光罩发起14.6亿元再融资，布局28nm至40nm高端光掩模产能
炒股就看金麒麟分析师研报，权威，专业，及时，全面，助您挖掘潜力主题机会！ 每经记者|文多每经编辑|魏文艺 3月23日，半导体掩模版企业龙图光罩(39.080, 0.28, 0.72%)（SH688721，股价38.80元，市值51.80亿元）发布《2026年度向特定对象发行A股股票预案》，拟向不超过35名（含）特定对象发行股票，募集资金总额不超过14.6亿元，全部用于“40nm—28nm半导体掩模版生产线建设项目”。 图片来源：龙图光罩公告 这是龙图光罩自2024年8月在科创板上市后的首次再融资，旨在突破