ASML警告：对华光刻机销售锐减，中国自主替代提速

快科技5月22日讯，“若将你置于沙漠，告知未来断绝粮源，你需耗时多久方能开辟自有菜园？”

20日，在比利时安特卫普举办的科技盛会中，荷兰光刻机领军企业阿斯麦（ASML）CEO富凯呼吁，针对输华芯片制造设备的出口，应确立更统一的规范。

他主张，持续收紧的光刻机对华出口管制，不仅难以阻挡中国芯片产业的崛起，反而将促使中国加速自主研发替代设备的进程。

美国国会于4月提出《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH法案），要求荷兰、日本等盟友严格执行美国出口管制，在现行极紫外光刻机（EUV）对华全面禁售基础上，进一步把浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备纳入限制，甚至禁止为已售设备提供售后支持。

对此，荷兰政府已明确表态反对，指出该法案存在不合理的长臂管辖问题。

富凯强调，阿斯麦当前对华销售的DUV设备，技术源于2015年，对应的是八代以前的芯片制造工艺。

他以一个生动的比喻阐述了限制的负面效应：“若将你置于沙漠，告知未来断绝粮源——你需耗时多久开辟自有菜园？这关乎生死存亡。”

实际上，出口管制已对阿斯麦在华业务造成显著冲击。阿斯麦今年1月预测，公司2026年在中国市场的销售额占比将从去年的33%大幅降至20%。中国海关总署数据也佐证了这一趋势，今年第一季度，中国从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。

业内分析指出，富凯的言论折射出欧洲科技企业对美国单边管制政策的忧虑。过度限制不仅会破坏全球半导体产业链的稳定，更将倒逼中国加速核心技术自主化，最终可能导致管制措施适得其反。

责任编辑：朝晖