芯片专家解析华为新定律：突破光刻机限制达1.4nm效果成可能

快科技6月5日消息，关于华为 recently 公布的韬定律，国际芯片设计与半导体技术权威专家Andrew B. Kahng在最新采访中表示，这一创新技术路径在某些关键方面确实能够缩短研发时间。

华为公司董事兼半导体部门总裁何庭波此前正式公布了“韬（τ）定律”，其核心理念是摆脱过去五十年依赖缩小晶体管物理尺寸来提升制程的传统模式。

根据公开的技术发展预测，预计到2031年，依据韬定律开发的先进芯片，其晶体管密度将可达到传统方法下1.4纳米工艺的同等水准。

Andrew B. Kahng强调，距离2031年仅剩五年时间，可以合理推断，华为已经掌握一套完整的、可实施的技术方案，相关核心研究已进入相当成熟的阶段。

整个行业早已意识到先进工艺升级的收益正在逐渐减少，功耗、性能、面积这三项关键指标在从5nm向3nm、2nm及1.4nm推进过程中，每代改进的实际提升幅度已经明显减缓。

这意味着，韬定律所需弥补的技术鸿沟，实际上比许多观察家基于传统路径的直观判断要小得多，整套非传统路线的实现可能性远高于多数人的预期。

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